電子超純水一般工藝流程: <?xml:namespace prefix = o ns = "urn:schemas-microsoft-com:office:office" />
(水質符合美國ASTM標準,電子部超純水水質標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
典型工藝2:原水→預處理→反滲透→EDI→精密過濾→用水點
•預處理-反滲透-中間水箱-水泵-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象
•預處理-一級反滲透-加藥機( PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
•預處理-反滲透-中間水箱-水泵- EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
•預處理-反滲透-中間水箱-水泵- EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
應用場合:
•半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
•超純材料和超純化學試劑;
•實驗室和中試車間
•汽車、家電表面拋光處理;
•其他高科技精微產品。