產(chǎn)品品牌：諾福

產(chǎn)品型號：NW-100

性狀：透明液體

用途：清除金屬離子，除污，殺菌

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：ISO9000-ISO14000

主要用途：去除金屬離子

產(chǎn)地：比利時

溶解性：100%

推薦用量：0.03 ﹪

主要成份：純過氧化氫，活性膠質(zhì)銀離子

有效物質(zhì)含量：50%

微電子行業(yè)的核心是超大規(guī)模集成電路芯片的生產(chǎn)技術(shù)，在復(fù)雜的生產(chǎn)過程中有多道工序要使用超純過氧化氫。由于芯片生產(chǎn)極其嚴(yán)格的要求是人類工業(yè)化生產(chǎn)唯一的，雜質(zhì)對芯片生產(chǎn)都是致命的。為了防止生產(chǎn)過程中受外來雜質(zhì)（特別是金屬離子）污染，因此所用過氧化氫必須是超純的，其質(zhì)量要求是極其苛刻的。 

產(chǎn)品成份

電子級穩(wěn)定性過氧化氫，活性膠質(zhì)銀離子

【產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)】

產(chǎn)品達(dá)到SEMIC19-90標(biāo)準(zhǔn)和SEMIC75-93標(biāo)準(zhǔn)

產(chǎn)品特性諾福的主要功效成份：超純型穩(wěn)定性過氧化氫具有超純的氧化力，能氧化芯片的有害雜質(zhì)（特別是金屬離子）、懸浮物和穿透細(xì)菌、微生物的細(xì)胞壁和細(xì)胞膜，使其關(guān)鍵功能成分被氧化。產(chǎn)品特點：1氧化分解芯片的有害雜質(zhì)（特別是金屬離子）、有機(jī)雜質(zhì)、非金黃屬離子雜質(zhì)，懸浮物和穿透細(xì)菌、微生物的細(xì)胞壁和細(xì)胞膜，2 安全無毒、無污染、無任何副作用，無味，無色，不起泡沫，不會造成污染的問題。能夠在0－95攝氏度情況下有效使用，100% 的可生物分解，完全的生物友好，不會污染環(huán)境，不會造成芯片短路，防靜電。3 產(chǎn)品不易揮發(fā)，質(zhì)量穩(wěn)定，保質(zhì)期長

產(chǎn)品使用范圍 

1，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路和TFT-LCD面板制造過程及太陽能硅片，電子元件的蝕刻與清洗，半導(dǎo)體工藝的流程。

2，用于電子芯片、電子器件、機(jī)密電子的有害雜質(zhì)（特別是金屬離子）、有機(jī)雜質(zhì)、非金黃屬離子雜質(zhì)的氧化去除、電子線路管、金屬管件上的氧化銅、氧化鐵、氧化鋁等氧化物的去除。 

產(chǎn)品使用方法：

1 浸泡 用諾福超純型穩(wěn)定性電子級氧化劑1：300的使用比例，浸泡半小時即可使芯片，電子原件等表面的雜質(zhì)（特別是金屬離子）去除，氧化。

2 噴灑涂抹、刷洗  以諾福超純型穩(wěn)定性電子級氧化劑1：500的使用比例，在芯片、電子原件上進(jìn)行（細(xì)小器具）涂抹、刷洗，清洗。

特殊性能 

●能有效去除電子器件基材上的氧化銅和聚合物材料。 

●能在金屬表面形成保護(hù)膜，有效阻止金屬表面再氧化和腐蝕。