高純水制取設備,生化儀配藥用水,沈陽醫院用水設備

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:醫藥行業、電子工業，半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。
        水是藥物生產中用量最大、使用最廣的一種基本原料，用于生產過程及藥物制劑的制備，制藥用水是制藥業的生命線。隨著科學技術的不斷進步，有關制藥用水的制備技術也發生了革命性的改變。在世界許多發達國家如美國，注射用水(Water for Injection WFI)必須由蒸餾工藝制備這一局限早已被突破，技術更先進、更節能、品質更穩定可靠的高純水(Highly Purified Water HPW)及其制備工藝早在1975年已經得到正式確認(美國藥典第19版:USP19)。

高純水制取設備,生化儀配藥用水,醫院用水設備

制藥工藝用水分類和水質標準：
　　萊特萊德的制藥超純水設備系統遵循模塊化設計理念，以預處理、氧化消毒、多介質過濾、RO反滲透、UV消毒、EDI連續去離子和儲存外輸等功能單元為基礎，在設計、制造、調試過程中將鸞江水處理先進的技術、精湛的工藝和嚴格的質量控制貫徹到每個功能單元；最終產水裝置根據其用水標準的不同，經由各功能模塊優化組合而成，從而保證了整個系統的高性能與高質量，使產成水完全達到或超過純化水和注射用水的水質標準。
 
制藥行業制備超水的工藝大致分成以下幾種：

1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾→陰樹脂過濾→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調節→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

4、原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

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制藥超純水設備的工藝特點：

在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質符合要求，水利用率高，運行可靠，經濟合理。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

超純水設備應用領域： 　　

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　　

電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水； 　　

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；　　

生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； 　　

晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；　　

集成電路生產中高純水清洗硅片； 　

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水； 　　

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；

高品質顯像管、螢光粉生產；　　　

汽車、家電表面拋光處理等。

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