電子行業(yè)超純水設(shè)備,美國E-CEEL超純水設(shè)備,大連超純水設(shè)備

電子工業(yè)用超純水系統(tǒng)設(shè)備概述
  
　　電子工業(yè)用的半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電子器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路（包括太陽光伏電子板）需用大量的純水、高純水、超純水清洗原料、半成品及成品。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

　　公司吸取世界先進(jìn)的工業(yè)應(yīng)用高純水制備系統(tǒng)技術(shù),研發(fā)生產(chǎn)出電子工業(yè)用高純水的制備系統(tǒng)，不僅使純水電導(dǎo)率達(dá)到18MΩ.cm的要求，系統(tǒng)還具有性能高、低能耗、使用壽命長、出水水質(zhì)穩(wěn)定、適用范圍廣等特點。

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工藝流程
 
　　采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿�巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原�?rarr;多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備(RO膜)→電去離子（EDI）→超純水箱→拋光混床→后置保安過濾器→用水點
 
系統(tǒng)特點
 
1）電子工業(yè)超純水設(shè)備由多介質(zhì)過濾器、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換EDI電除鹽系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。
2）原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守。
3）在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
4）采用反滲透（RO）脫鹽系統(tǒng)，反滲透（RO）膜使用壽命可達(dá)4-5年。
5）設(shè)備的配置，主控件、關(guān)鍵設(shè)備部件均采用國內(nèi)外先進(jìn)的、并應(yīng)用實例廣泛，性能安全可靠的產(chǎn)品。

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EDI技術(shù)的發(fā)展

    電去離子(EDI-electrodeionisation)是一種將離子交換樹脂和離子膜相結(jié)合,在電場作用下連續(xù)去除離子的水處理方法。該技術(shù)是隨著工業(yè)生產(chǎn)對純水質(zhì)量要求不斷提高和環(huán)保對水處理中水利用率和化學(xué)物品的排放控制要求提高而逐步發(fā)展起來的。

    歷史上,早期的純水的需求主要來自于醫(yī)藥、化工、發(fā)電、造紙等行業(yè),水質(zhì)要求相對較低。在六、七十年代,純水制備主要采用蒸餾和離子交換。前者能耗很高,后者需要化學(xué)藥劑再生,既麻煩又不經(jīng)濟(jì),而且由于強(qiáng)型樹脂對一般有機(jī)分子去除效果很差,出水中TOC含量高。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展,對純水質(zhì)量要求不斷提高,從而大大推動了純水技術(shù)的發(fā)展。到八十年代,膜技術(shù)得到廣泛應(yīng)用,微濾、超濾、電滲析和反滲透(RO)等先進(jìn)的水處理技術(shù)得到長足發(fā)展。RO-混床系統(tǒng)取代了傳統(tǒng)的離子交換系統(tǒng),解決了TOC問題,滿足了諸如電子等行業(yè)對純水質(zhì)量要求。但是,由于RO脫鹽率有限,混床需要化學(xué)藥劑再生的問題仍未解決,并且出于環(huán)保需要,減少化學(xué)再生藥劑使用的呼聲越來越大,因而以電化學(xué)為基礎(chǔ)的EDI技術(shù)便得到了重視。
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