沈陽半導體清洗,沈陽光伏產業用水設備,美國E-CEEL超純水設備

半導體清洗超純水設備水質標準：

半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

在光伏行業電子管生產中，光伏行業電子管陰極涂甫碳酸鹽。如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒火粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致報廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求

在光伏行業晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，III族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，V族素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20%~50%）會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。
 
1.水源的影響       
由于水是一種溶解能力很強的溶劑,因此天然水中含有各種鹽類和化合物,溶有CO2, 還有膠體(包括硅膠和腐殖質膠體),天然水中還存在大量的非溶解性質,包括粘土、砂石、細菌、微生物、藻類、浮游生物、熱源等。           

2.材料的影響                 
制備超純水的材料設備的材質都是用金屬和塑料制成的,金屬在水中會有痕量溶解,造成金屬離子污染。一些高分子材料,在合成時常常加入各種添加劑、增塑劑、紫外吸光劑、著色劑，也引入大量的金屬、非金屬雜質，同時還會帶來有機污染。             
材質的污染主要以污染值來衡量。所謂污染值是指：單位面積的材料使單位體積的純水電阻率的增加值。

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半導體清洗超純水設備應用場合：

☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

　　☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

　　☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

　　☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

　　☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　　☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片

　　☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　　☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　　☆高品質顯像管、螢光粉生產

　　☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

　　☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

　　☆實驗室和中試車間

　　☆汽車、家電表面拋光處理

　　☆光電產品、其他高科技精微產品

 半導體清洗超純水設備制備工藝：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)

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