近幾十年以來，混合床離子交換技術一直作為超純水制備的標準工藝。由于其需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學藥品(酸堿)和純水，并造成一定的環境問題，因此需要開發滿足現代工業和環保的需要的系統。沈陽LCD液晶顯示器,沈陽電去離子(EDI)系統,EDI裝置

　　EDI技術出現，更進一步降低了運行成本，無酸堿消耗，對環境不造成任何污染，使我們真正進入綠色水處理的時代，且能耗少，每產水3.8m3/h，耗電1kw。EDI技術被制藥工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。

　　電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。EDI設備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途和系統配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

　　一、LCD液晶顯示器用超純水，純水設備，超純水設備對水質的要求：

　　新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

　　二、LCD液晶顯示器用超純水設備水質標準：

　　我公司電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

　　三、LCD液晶顯示器用超純水處理工藝：

　　常用的處理工藝為反滲透+混合離子交換法，或更為先進的反滲透+EDI(電去離子法)使產品水水質能達用水要求,相比之下，后者成本相對高些。

　　EDI工藝參數

　　(一)水質要求

　　電除鹽系統的進水水質要求必須是一級反滲透的出水(電導率為4~20μS/cm)或與之相當的水質(最佳電導率是1~lμS/cm)。沈陽LCD液晶顯示器,沈陽電去離子(EDI)系統,EDI裝置

　　1.一般要求

　　2.系統中CO2問題

　　CO2是一個關鍵因素。因為分子的CO2可以透過RO膜進人后續系統中的混床或者EDI中的陰離子交換樹脂，加重陰離子的交換負荷。因此在一些情況下，系統中通過加NaOH來增加，H值，把CO2轉化成碳酸鹽和重碳酸鹽，有效地在RO膜中去除。

　　3.兩級RO出水問題

　　一般認為ROI→ROⅡ→EDI對EDI的出水質量并不一定比ROI -EDI的出水質量好。因為兩級RO出水的電導率在1-2μS/cm，進人到濃水、極水的導電特性不夠，導致模塊電阻上升，電流下降。模塊就不能將離子從主進水流(穿過膜)中遷移到濃水中，產品水的水質會受影響。

　　如果RO出水的電導率小于2μS/cm, EDI濃水的進水電導率應設計在10~100μS/cm范圍內，使濃水出水電導率達到40~100μS/cm的理想值。濃水出水電導率可從濃水進出口濃度和回收率進行平衡計算，然后確定設計方案。

　　電去離子(EDI)系統的優點：

　　1. 無需酸堿再生： 在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生， 而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。

　　2. 連續、簡單的操作： 在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的， 產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。沈陽LCD液晶顯示器,沈陽電去離子(EDI)系統,EDI裝置

　　3. 降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。模塊化的設計， 使EDI在生產工作時能方便維護。