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《處理光致抗蝕劑層資料》包括專利技術全文資料12份。
0001)用光化學處理提供巨磁阻研磨板組織形成物的方法和設備

0002)浸潤式光刻的方法及其處理方法

0003)在制作印制電路板的過程中處理金屬包裹層壓板的處理方法和系統

0004)光致抗蝕劑用剝離液以及使用該剝離液的基板處理方法

0005)光致抗蝕劑層的表面處理方法及光致抗蝕劑層的形成方法

0006)用于處理半導體器件的光掩模的方法

0007)含有表面活性劑的處理溶液

0008)等離子體處理法、等離子體蝕刻法、固體攝像元件的制法

0009)返工處理方法

0010)水蒸汽作為處理氣，用于離子植入后抗蝕劑剝離中硬殼、抗蝕劑和殘渣的去除

(1012948(*)氟硅玻璃層表面處理的方法
(1012948(*)基片處理裝置


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