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《對準金屬硅化資料》包括專利技術全文資料26份。
0001)局部形成自對準金屬硅化物的方法

0004)自對準金屬硅化物的制造方法

0005)可避免短路的自行對準金屬硅化物制程的處理方法

0006)局部形成自對準金屬硅化物的方法

0007)一種自對準難溶金屬硅化合物阻擋層的刻蝕方法

0008)局部形成自對準金屬硅化物的方法

0009)可應用自動對準金屬硅化物掩膜式只讀存儲器的制造方法

0010)自我對準金屬硅化形成方法

0026)在半導體晶片上形成自行對準金屬硅化物接觸物的方法



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